Institut für Plasma- und Lasertechnik
Schwerpunkte
- Entwicklung neuer Materialien für opto-elektronische, elektro-optische und nichtlinear-optische Bauelemente, organische, anorganische und organisch-anorganische Funktionsschichten
- Herstellung und Charakterisierung von Materialien und dünnen Schichten
- Laseranwendungen in der Materialbearbeitung
- Plasmatechnologie/Dünnschichttechnologie
Leistungsangebot
- Lineare Transmissions- und Emissionsspektroskopie
- Charakterisierung nichtlinearer optischer Eigenschaften (SHG, THG, Pockelseffekt, Kerreffekt)
- Rastersondenmikroskopie (Atomkraftmikroskopie und Scanning Tunneling Mikroskopie) Rasterelektronenmikroskopie mit EDX, Digitale Mikroskopie
- Metallografische Präperations- und Untersuchungsmethoden
- Ionenfeinstrahlanlage (FIB, focused ion beam)
- Ellipsometrie, Surface-Plasmonen-Spektroskopie, M-Linien-Spektroskopie
- Laserschneiden, Laserablation, Laserdeposition
- Plasmaaktivierung, -reinigung, -beschichtung von Oberflächen
- Synthese von niedermolekularen Verbindungen, konjugierten Polymeren und Chromophoren
- Spin-coating, Lagmuir-Blodgett-Technik, Hochvakuum-Beschichtung, Vakuum-Deposotions-Polymerisation
- Strukturierung dünner Schichten
Kontakt